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本文標(biāo)題："制造微電子IC產(chǎn)品的模型生產(chǎn)-光刻檢測(cè)便攜顯微鏡"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-9-1 14:30:45 本站主頁(yè)地址：http://www.pzfczx.com
制造微電子IC產(chǎn)品的模型生產(chǎn)-光刻檢測(cè)便攜顯微鏡
普通的光刻方法之一被用來(lái)在硅或者是其他的底層上壓一層薄膜宋
制造模板。當(dāng)模板的表面被蝕刻并且使硅烷化之后，液體PDMS前體就會(huì)
覆蓋模型并且通過(guò)連接通道聚合。然后，將人造橡膠從模板上剝掉，并
且放在底層上處理。帶有不同液體和懸浮液的PDMS壓印的濕潤(rùn)過(guò)程在壓
印之前就完成了。總的來(lái)說(shuō)，模型的深度大約在0．2到20um之間，最大
值由PDMS結(jié)構(gòu)的可靠性所限制。接觸區(qū)域的寬度和面積在0．5到200gm
之間，間隔是由被壓印底層的膨脹和接觸之間的區(qū)域趨勢(shì)所決定的。如
果PDMS壓印附著于圓筒，軟光刻就可以用于翻滾方式。
用于制造微電子IC產(chǎn)品的模型生產(chǎn)和轉(zhuǎn)換包括一些有限的材料和相
關(guān)的處理。用于芯片的材料數(shù)量現(xiàn)在只有10個(gè)。銅連接、用于門(mén)隔離的
高電解質(zhì)材料(k)和用于隔離內(nèi)部連接線的低電解質(zhì)材料都是新近加到I
C材料列表中的。在芯片生產(chǎn)時(shí)這些材料的處理步驟也需要10種之多。
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