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本文標題："根據不同用戶不同要求實驗研究開發光刻膠"
新聞來源：未知 發布時間：2018-10-1 23:19:21 本站主頁地址：http://www.pzfczx.com
根據不同用戶不同要求實驗研究開發光刻膠
大多數的光學和非光學抗蝕劑需要靠堅膜來提高抗蝕性。主要目的是
為了減少在刻蝕工藝中所弓I起的圖像鉆蝕：對不同的刻蝕工藝，堅膜條件
也不同。干法刻蝕工藝的各向異性性能比較好，其堅膜的時間和溫度可適
當地減少和降低。干法刻蝕的工藝條件主要取決于刻蝕用的工作氣體。近
年來蝕劑的品種在逐年增加，新的抗蝕劑具有更好的化學和物理性能。這
些材料都有各自的千法瓤蝕和濕法刻蝕的刻蝕劑。選擇刻蝕劑的依據是，
通過刻蝕后，原有抗蝕劑的圖像幾何尺寸應保持基本不變、邊緣整齊、無
嚴重鉆蝕現象。
一般來說，通過堅膜可以提高抗蝕劑的化學穩定性。衡量一種掩膜材
料好壞的標準是通過刻蝕后，在成像區投有針孔，在非成像區沒有抗蝕劑
的殘留物和其他沾污。抗蝕剎必須能在某種溶液中徹底清除干凈，同時這
種溶液又不能影響襯底。遺憾的是，事實上沒有一種擾蝕劑能完全達到這
些要求。
現在，實驗研究開發光刻膠的目標是：根據不同用戶的不同要求，提
供各種光抗蝕劑和電子束抗蝕劑。正性光致抗蝕劑獨霸市場的時代已經過
去了，各種新的抗蝕劑正在不斷涌現。目前有幾種新的抗蝕劑已進入最后
的測試階段，不久就可以商品化。最引人注目的是為某種特殊工藝要求設
計的高溫抗蝕劑，它的特點是堅膜溫度高，抗蝕性能好，分辨率高，這種
材料較適應于難瓣蝕材料的掩膜層。
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