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本文標題："物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)研究金相顯微鏡"
新聞來源：未知 發布時間：2016-7-12 16:09:45 本站主頁地址：http://www.pzfczx.com
物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)研究金相顯微鏡
薄膜沉積方法
物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)是將材料原子逐個地從一
個或多個源轉移到基體上的沉積薄膜生長表面的最普遍的方法．氣相沉
積描述任何一個浸在氣相中的固體由于材料從氣相轉移到固體表面而使
其質量變大的過程．沉積過程通常在真空室中進行以便能夠控制氣相成
分．如果氣相通過物理方法產生而沒有化學反應。這個過程被分類為PV
D；如果被沉積的材料是化學反應的產物，這個過程被分類為CVD．為了
盡力平衡基于薄膜純度、結構質量、生長速率、溫度約束和其他因素所
要求的各種策略的利弊，已經發展了許多不同的基本氣相沉積方法．在
這一節里．將對這些制備方法的顯著特點做一簡單介紹．如在本章的后
面幾節中將要介紹的，由于薄膜中的應力狀態強烈地受其沉積歷史的影
響，制備是具有普遍意義的問題．物理氣相沉積
物理氣相沉積是一種憑借物理過程(例如蒸發、升華或離子撞擊靶
材)促使原子從固體或熔融的源轉移到基體上的技術．蒸發和濺射是兩
種應用最廣泛的沉積薄膜的PVD方法．
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