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本文標題："亞微米技術制造的存貯器焊接金屬分析金相顯微鏡"
新聞來源：未知 發布時間：2015-7-27 21:54:47 本站主頁地址：http://www.pzfczx.com
亞微米技術的應用主要將影響磁泡和半導體存貯器方面。
雖然首批用亞微米技術制造的存貯器可能為64 K的隨機存貯
器(RAM)，但“百萬位芯片”也不是不可能的。這些結構意味著
對單磁道磁頭的存貯系統來說，亞微米器件比磁盤或磁鼓更經
濟。
超大規模集成電路技術將應用于復雜性仍在不斷增加的新
產品中。帶有單片存貯器的單片中規模計算機迅速成為現實，
不久將出現在一塊芯片上形成的完整的小型計算機。
封裝成本將限制亞微米技術在簡單集成電路中的應用。如
果是i占片成本而不是封裝成本占主導地位，那么就能從亞微米
技術投資中獲利。
由于制版、檢查和其宅操作步驟的許多方面都有所改變，如
采用亞微米技術，就需要有新的設施．
對準是亞微米技術的一個關鍵因素。在大部分結構中，
熱膨脹系數和物理條件的微小差異成為實際上的限制因素。但
對某些本來就不需要有高度對準精度的磁泡或自對準器件來
說，情況就并非如此了。工藝的發展以及類似予合成制版和自
對準MOS柵的工藝研究和計劃可能會取得成果，這樣在無需
強調對準步驟的情況下就可達到電子束技術的分辨率。
雖然采用掃描技術可將電子束連續投影在硅片上，但這是
一種速度較慢的工藝，無法使亞微米技術經濟地使用于許多生
產場合。
在硅片上高速復制掩模的基本方法有兩種：一種是采用電
子束，另一種是采用x射線。電子束投影儀利用光電陰極作用，
整個掩模可發射電子，或可用機械結構來掩蔽電子束。因為電
子束與X射線一樣可沿直線投影，所以這兩種方法均可采用投
影技術。無論電子柬投影還是x射線投影均能在幾秒鐘內曝
光一片碎片．
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