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鑄態奧氏體在再加熱過程中既無相變,也無析出反應,想像
中應該最容易達到均勻化并且順利析出二次碳化物后完成脫穩過
程。但是,事實上鑄態奧氏體析出的二次碳化物是在奧氏體晶體
組織的一定方向上優先生長,在奧氏體晶粒內的局部產生有限數
量的針狀碳化物。針狀碳化物周圍變成貧碳貧鉻區,這種區域在
基體中分布不均。由于出現濃度梯度,必然有碳鉻原子向這些區
域移來,達到濃度平衡。但因原子擴散路徑較長,擴散速率比較
緩慢,需要很長時間才能使奧氏體內濃度均勻。如果高鉻鑄鐵鑄
態基體組織是珠光體,將會在最短的加熱時間內實現奧氏體濃度
均勻化。實踐表明,奧氏體化處理前,具有珠光體基體的高鉻鑄
鐵熱處理能夠獲得較好效果。
為了在鑄態基體中獲得盡可能多的珠光體組織,可以采取的
措施有:在滿足鑄件性能需要的前提下,適當減少合金元素加入
量,提高鉻碳比;鑄件的冷卻速率應與鑄件模數相適應。如果鑄
件模數高,難以產生珠光體時,可以實行高溫開箱,開箱后鑄件
迅速轉入保溫坑中。必要的時候,奧氏體化前,實行預珠光體化
處理。
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