---
---
---(點擊查看產品報價)
本文標題："光刻工藝分析最小形體尺寸計量圖像顯微鏡"
新聞來源：未知 發布時間：2018-1-21 2:14:40 本站主頁地址：http://www.pzfczx.com
光刻工藝分析最小形體尺寸計量圖像顯微鏡
光刻工藝
光刻是通過掩模在一種稱為光刻膠的薄層材料上印刷幾何圖形
的工藝，光刻膠是一種對輻照敏感的材料。
圖形制作過程通過光刻曝光裝置發射光線來完成。決定曝光裝
置性能的有三個特性：分辨率、對準精度和產出量。分辨率定義為
高保真地傳輸到位于晶片表面光刻膠膜上的最小形體尺寸。對準精
度是衡量連續幾個掩模圖形與晶片上先前確定的圖形對準的準確程
度。產出量是指對于一個給定的掩模每小時可曝光的晶片數量。對
于不同的分辨率選擇不同類型的光線
晶片和掩模之間的緊密接觸可以得到很高的分辨率，通常高于
1μm。然而，接觸印刷由于晶片表面上的顆粒與掩模接觸而擦傷掩
模。這些顆粒最終會在掩模的透明區域形成不透明的暗點。
投影印刷是另一種曝光方法。在這種方法中，減小了遮蔽印刷
中產生的掩模損傷問題。投影印刷曝光裝置將掩模圖形的圖像投射
到距掩模幾厘米的被光刻膠覆蓋的晶片上。在投影印刷中為提高分
辨率，每次只曝光掩模的一小部分。一個大約1mm寬的窄弧形像場
將掩模的縫隙圖像順次地轉移到晶片上。
所有資料用于交流學習之用，如有版權問題請聯系，禁止復制,轉載注明地址
上海光學儀器一廠-專業顯微鏡制造商 提供最合理的顯微鏡價格
合作站點：http://www.sgaaa.com/顯微鏡百科