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冶 金 學
在低溫下形成勢壘接觸的冶金學是比較簡單的,因為金屬與
半導體不發生反應。但是,當在高溫下要形成歐姆接觸或穩定的
勢壘結構而進行燒結時,就會發生強烈的反應。低阻歐姆接觸的
要求是:
①接觸金屬應當與半導體均勻地浸潤并起反應。
②應當形成一個均勻的高摻雜區,用它產生具有歐姆行為的
低接觸電阻。
④這個接觸體系應當與所用的其它金屬相熔合,并能在以后
的整個加工程序中保持牢固不壞。
通常使用的接觸金屬所包含的摻雜劑,n型的有錫,銦或鍺;
P型的有鋅或錳,并與金,銀或鎳組成合金。后者提供一個適于
焊接引線的表面,并且在合金過程中使低熔點的摻雜劑直接與半
導體接觸。
材料的電學鑒定是一個復雜而廣泛的研究課題。它包括體材
料的分析,監控薄的外延層(與器件層同時生長的),在整個片
子表面上平均值的測量,特定器件中的體積測定,對完整器件的
測量以及為了確定材料的某種特性而進行的試驗等等。
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