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在曝光工藝中,另一個變量是光刻膠的靈敏度。而這個參數又
是前烘溫度、表面反射情況、涂膠后版子的存放時間、光刻膠的批
號、版子的溫度和工藝區的溫度等的函數。這些因素都是可控的
另外,光刻膠曝光不足已成為提高生產率的一個突出的問題,
曝光不足將導致光刻膠顯影不均勻和顯影不干凈,從而使刻蝕
不均勻和刻蝕不完全。有時會留下叫層用光學顯微鏡無法觀察到的薄膜。
為了迅速檢查曝光不足情況,可對部分光刻膠進行過曝光(2倍于正常曝光量),
通過對顯影速率的變化來檢查曝光不足情況。如果曝光充分和適當,
在顯影液中立刻會看見“紅云”出現。一般為10s左右。對各種不同的顯影方法,
“紅云,出現的時間略有不同。目前,檢測曝光量的設備發展很快,這
些設備能更快更簡單地反映出曝光能量的變化情況。.
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