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化學浸蝕是重要方法之一。化學浸蝕可借助于制成溶液
的各種試劑(用普通方法或通以電流),借助于熔鹽,在空氣中
氧化或真空中氧化等方法來實現。化學浸蝕可促使各組織單元發
生選擇性著色或選擇性溶解。而選擇性溶解的結果,在磨片表面
上產生浮雕,這種浮雕在斜照明時特別清晰。用化學方法顯露組
織的理論目前僅處于發展初期。它是以電化學、關于腐蝕和氧化
的學說所擬定的概念為依據的。
顯露后,便用肉眼和放大鏡(宏觀組織)或借助顯微鏡研究
組織。
光學顯微鏡檢查和電子顯微鏡檢查是金相實驗中極重要的部
分。顯微鏡下的圖象是不是清晰,不僅取決于浸蝕方法,而且還
取決于光學設備。第三章的開頭部分敘述了結構組分的光學性質
,這部分內容是和第二章相關聯的。顯微鏡檢查的日趨完善是幾
何光學和物理光學發展的自然結果。為了了解現代顯微鏡的構造
和使用方法,就需要掌握射線光學和波動光學的定律,引起光的
衍射和干涉現象來解釋影象中所產生的誤差(或象差)。
應特別注意分辨能力和有效放大的限度,以及提高普通光學顯微鏡
下的對比。
在這個方面,詳細地討論了孔徑和像的浮雕,濾光器的作
用和暗場照明。同時指出了構成對比的幾種特殊方法(偏振法,
變色法,相位對比法)和基于濼光學過程的紫處線顯微鏡檢查的
運用方法。
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