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表層結構分析儀器的特點-試樣表面粗糙度測量
能譜分析儀(EDS)
能譜儀是最常用的表層成分分析儀器,經常在做掃描電鏡時順便可對感興趣的微區做
元素成分分析。能譜儀是利用銼漂移硅Si(Li)半導體探測器對樣品發生的特征x射線能量
采用能量分散講儀進行分析比對,從而識別微區的元素成分。
得到的能譜曲線
儀器輸出的特征X射線脈沖的高度可表達能量,脈沖的計數量代表X射線的強度.
能量表示在橫坐標上,所有原子序數的元素的X射線能量是特定的,所以各元素在橫坐標上的
排序是固定的。一旦檢測到某一元素的X射線,就會在橫坐標的特定位置上出現脈沖,該元
素的量越多則脈沖的記數越多,在縱坐標上顯示的峰值就越高。
由于Si(Li)品體必須在深冷溫度下才能防止Li的揮發和長期可正常工作,需用液氮保持低溫。
能譜分析可用于Bc -U(原子序4-92)的各元素的定性分析,定量可作為重要參考。
而原子序小于4的H, He, Li是不能分析的,至于常用的C(碳)等輕元素的定量分析很不準確,
而氧元索的定量分析是可信的。探測的極限濃度(成分)為10-1000 μL/L
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