本文標題："光學研磨拋光技術-在微光學元件中有許多的改進方法"

光學研磨拋光技術-在微光學元件中有許多的改進方法

在微光學元件中有許多的改進方法，而我們是以光學研磨拋光

技術作為我們改進微光學元件的表面粗糙度的問題，并可增加其反

射效率或透射效率，現在研磨拋光技術比以往進步很多，但主要是

順應大量加工和省力化。

在研磨加工機械方面，我們使用壓電陶瓷馬達作為我們的主要

驅動器，其可作為一維的精密推動，移動范圍可從微米級（μm）至

厘米級（mm），而移動速度可控制范圍從（10μm/sec）至（10mm/sec）。

另外，我們可在其上加上一向下之正向壓力從（0.01NT）至（10NT），

以進行我們的微光學元件研磨拋光。

而我們先以兩片直角柱狀鏡作研磨工件，兩片互相相對，溝槽

對溝槽，對其兩溝槽作研磨，但是因其皆為微小（100μm），故難以

對準，所以我們利用我們實驗室已有之 moire 疊紋校準法對其加以

修正，當兩溝槽不為平行就會有 moire 疊紋的出現，故當兩溝槽為

平行時，就不會有 moire 疊紋的出現。見圖（5-7），此圖即為兩溝

槽為有傾斜之狀，其 moire 疊紋非常之明顯，所以我們就必須加以

修正，當其圖沒有 moire 疊紋的出現就是我們所要之兩溝槽對準平

行，

而此實驗我們還在進行當中，并且是我們將來首要進行之工作，

以此改進方法相信在未來會大大的應用，在以 LIGA或是以LIGA-like

制作微光學元件，皆可解決此方法制作上之缺點，滿足將來更高品

質之光學微系統需求。